第193章第二百零一二章X射线光刻机
姜凡手指敲打着桌面,开始查看辅助智脑提供的芯片技术。
对已有科技的升级改造,辅助智脑是专业的,他不知道这是辅助智脑的能力,还是有薪火学院主脑的协助,不过他不在意这个,只要有科技就行。
很快他就查到了硅基芯片科技的极限,0.12nm,还真的是单层硅原子的厚度。
但要达到极限的0.12nm,需要改进的科技很多。
姜凡想了一下,说道:“你先说一下X射线光刻机的优缺点。”
“至于是做0.24nm还是1nm,等我了解了情况再说。”
沈坤盯着姜凡看了一会,他感觉这个老板有些不靠谱,什么叫了解了情况在说?
说得想要什么科技就有什么科技一样。
但他没有继续跟姜凡辩驳,俗话事不过三,姜凡已经要求了两次,他再次反驳的话,老板就该生气了。
老板是有些不靠谱,但谁叫老板是他现在的金主呢!
就算外行指导内行,只要给他的研究项目打钱,那就可以满足老板。
沈坤清清嗓子,直接说道:“要介绍X射线光刻机,不得不提一下极紫外线光刻机,现在主流的芯片光刻机都是极紫外线光刻机,最先进的也是极紫外线光刻机。”
“两种光刻机的区别有很多。”
“x射线光源的波长断,具有强大的穿透性,最大的优势在于他可以做出高深宽比的图形,更容易将电子线路和功能“印进”晶圆(单晶硅片)之中。
但X光线也有大问题,由于它的穿透性太强,导致了无法用透镜进行放大和缩小,而极紫外线可以进行放大缩小,这也是波长10nm的极紫外线可以造出2nm芯片的原因。
由于X射线无法用透镜进行放大和缩小,因此图形尺寸和掩模版的尺寸相同。
例如100nm尺寸的图形需要100nm尺寸的掩模版,所以x射线光刻过分依赖电子束光刻掩模版的精度。”
“现在X射线的光刻机能达到30nm的程度,跟现在主流的2nm光刻机差距太大,X射线光刻机已经被淘汰。”
“如果您想让X射线光刻机精度达到1nm,你需要先把能放大缩小X射线的透镜做出来。”
姜凡点点头,查看辅助智脑给他的芯片科技,很快就找到了其中的透镜,这个透镜跟他预期的有点区别,制作过程中涉及到了暗能,制作这个透镜的原材料是一种新型的化合物,一般的化学反应,暗能浓度是一个常量,跟常温常压之类的条件一样。
按照芯片科技中透镜技术的描述,要制作这种化合物,需要改变暗能浓度这个常量,好在这个暗能浓度数值是固定的,所以他只要建造一间暗能浓度固定的生产车间就行了,这个不用担心泄露暗能的秘密。
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